沉积光刻胶/光阻剂

Sono-Tek思诺泰的超声波喷嘴已被证明成功的用于涂布光刻化学品/光阻剂,到半导体晶圆片及平板显示器上。它非常适合于高精度要求的光刻工艺。

使用超声喷雾在光刻工艺的优点包括

• 在形貌起伏很大((高深宽比)的晶圆表面均匀涂布，诸如MEMS微电子。.
• 减少光刻胶消耗。.
• 严紧的沉积密度控制
• 高传输效率.